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辽宁力(c)不同条件下Ni-Mo合金上生长的石墨烯薄膜的OM图像。省电司书(b)使用PMMA作为前驱体在Cu膜上生长石墨烯的示意图。

华为合作(e)在液态Cu表面上合成HGFs的CVD过程示意图。技术图14具有均匀畴尺寸的石墨烯薄膜生长(a)石墨烯晶种阵列的SEM图像。有限意(d)本征和N掺杂石墨烯的拉曼光谱。

签署(c)从一系列晶种中在较长时间内生长的石墨烯晶粒阵列的SEM图像。在本综述中，国网公司作者着重讨论了CVD方法规模化制备石墨烯薄膜的重要影响因素，包括制程、工业规模设备和关键参数。

辽宁力(b)反应器的示意图和计算的AP和LP下甲烷浓度的分布轮廓。

图16CVD石墨烯薄膜商业化的展望石墨烯薄膜的商业化应用是一个综合的过程，省电司书需要考虑到生长、转移、应用、标准化等多个方面。然后，华为合作使用高斯混合模型对检测到的缺陷结构进行无监督分类（图3-12），并显示分类结果可以与特定的物理结构相关联。

图3-11识别破坏晶格周期性的缺陷的深度卷积神经网络图3-12由深度卷积神经网络确定的无监督的缺陷分类图3-13不同缺陷态之间转移概率的分析4机器学习在材料领域的研究展望与其他领域，技术如金融、技术互联网用户分析、天气预测等相比，材料科学利用机器学习算法进行预测的缺点就是材料中的数据量相对较少。图3-5 随机森林算法流程图图3-6超导材料的Tc散点图3.2辅助材料测试的表征近年来，有限意由于原位探针的出现，有限意使研究人员研究铁电畴结构在外部刺激下的翻转机制成为可能。

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